2023光刻机品牌前十强
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第1名
ASML阿斯麦欧洲85.9品牌评测指数
所属公司：阿斯麦(上海)光刻设备科技有限公司021-20366330ASML创立于1984年，全球芯片光刻设备市场领导者，是全球最大的半导体光刻设备制造商之一，ASML于2000年推出TWINSCAN光刻机，2010年成功研发首台EUV光刻机，是当前唯一可以生产EUV光刻机的公司。ASML在全球10余个国家设有60余个办公室。(由CN10/CNPP品牌研究员专业测评)发源地：荷兰创立时间：1984年企业领导：沈 * https://www.asml.com/
第2名
Nikon日本85.0品牌评测指数
所属公司：上海尼康精机有限公司021-58990266Nikon光刻机隶属尼康精机事业部，研制用于半导体生产的半导体光刻设备的开发与研究，Nikon光刻机业务涵盖ArFi光刻机、ArF光刻机、KrF光刻机、i-line光刻机系列集成电路用光刻机及面板用光刻机，是全球范围内较大的光刻机制造商。(由CN10/CNPP品牌研究员专业测评)发源地：日本企业领导：濑 * 口博https://www.cn.nikon.com/products/index.htm
第3名
Canon日本84.3品牌评测指数
所属公司：佳能光学设备(上海)有限公司021-23163200佳能光刻机历史源于Canon对相机镜头技术的应用，Canon于1970年成功发售日本首台半导体光刻机PPC-1，目前佳能的光刻机产品包括i线光刻机和KrF光刻机产品线，佳能光学设备是佳能公司在中国大陆地区成立的提供半导体及液晶面板生产设备营业辅助业务和技术支持业务的公司。(由CN10/CNPP品牌研究员专业测评)发源地：日本企业领导：牧 * 晶（MAKINO AKIRA）https://www.canon-ie.com.cn/
第4名
上海微电子Smee中国83.3品牌评测指数
所属公司：上海微电子装备(集团)股份有限公司021-51315131SMEE成立于2002年，是国产半导体光刻设备领域佼佼者，主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。(由CN10/CNPP品牌研究员专业测评)发源地：上海市创立时间：2002年企业领导：干 * http://www.smee.com.cn/
